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苹果屏下Face ID技术取得突破，有望告别药丸屏设计
导读 苹果在实现iPhone真全面屏形态上遇到的最大挑战是屏下Face ID技术。由于Face ID系统复杂，其关键组件在当前技术下难以完全隐藏于屏幕下方...
苹果在实现iPhone真全面屏形态上遇到的最大挑战是屏下Face ID技术。由于Face ID系统复杂，其关键组件在当前技术下难以完全隐藏于屏幕下方，因此苹果目前采用妥协的药丸屏方案。
近日，苹果获得了一项屏下Face ID专利，解决了屏下摄像头的技术难题。该专利通过删除部分子像素，提高红外光透光率，实现屏下人脸识别。这一方案不会影响显示效果，并预计将在2026年的iPhone 18系列上应用，届时iPhone将采用单挖孔屏设计，告别药丸屏。
